金剛石薄膜的制備與應(yīng)用

          金剛石薄膜的制備與應(yīng)用

          交易信息:
          完全轉(zhuǎn)讓-0.00 元
          技術(shù)領(lǐng)域:
          先進(jìn)制造技術(shù)
          應(yīng)用領(lǐng)域:裝備制造
          最后更新時(shí)間:2022-07-28 15:46
          所在地:
          吉林省 長(zhǎng)春市 南關(guān)區(qū)
          所有者:
          飆飆
          聯(lián)系方式:
          13756056562
          本項(xiàng)目主要利用微波化學(xué)氣相沉積或熱絲CVD的方法在不同襯底上生長(zhǎng)各類型金剛石薄膜(單晶、多晶及多孔金剛石)以滿足特殊超硬材料的機(jī)械加工和航空航天及微電子等領(lǐng)域?qū)﹃P(guān)鍵材料和技術(shù)的需求, 如金剛石電子器件、金剛石切削刀具、金剛石硬質(zhì)涂層、 金剛石窗口、電子器件散熱層等。

          技術(shù)特點(diǎn)(包含主要技術(shù)指標(biāo)):

          本技術(shù)主要利用微波化學(xué)氣相沉積法在不同的襯底上生長(zhǎng)各種不同類型的金剛石薄膜,可應(yīng)用于金剛石高頻高能微電子機(jī)械系統(tǒng)、功能防護(hù)涂層和透明電極、金剛石基生物傳感器,IR、紫外以及X光的窗口,場(chǎng)發(fā)射器件,遠(yuǎn)紫外激光器的制備等等。在硬質(zhì)合金上生長(zhǎng)的金剛石膜與基體之間有良好的結(jié)合力,可應(yīng)用于輕金屬和碳材料的機(jī)械加工。此外,本技術(shù)工藝簡(jiǎn)單,成本低廉,適合于工業(yè)推廣和應(yīng)用。技術(shù)指標(biāo)包括:生長(zhǎng)面積:≤3英寸;沉積速率:<10mm/h;厚度:3~50微米; 硬度:50-100GPa。


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